为了解决超薄石英晶片高表面质量的加工问题,以及寻求一种高效低成本的加工方法,将一种新的超精密抛光工艺应用到超薄石英晶片的加工中。依照传统的平面研磨机游离磨粒加工,因为工件与磨具之间的磨粒粒度实际不均匀,较大尺度的磨粒或从工件上掉落的尺度较大的磨削简单进入加工区,使得无论是硬质研磨盘还是软质盘,大颗粒与磨粒的载荷不同,简单致使工件的外表损害。
平面研磨机的半固结磨料磨具和一般磨具在结构上对比相似,由磨粒、孔隙、结合剂构成,但组合剂强度不大,当硬质大颗粒进入加工区时,研磨盘上大颗粒周围磨粒可发生方位搬迁,构成“圈套”空间,使大颗粒与磨粒趋于等高。使得载荷变化小,外表损害也相对较低。
由于石英晶片的基频与表面质量直接相关,石英晶片超精密平面研磨机半固结磨粒磨具加工技术,使石英晶片表面质量有望得到提高。石英晶片的基频,也因此得到了稳定及提高。
实验结果表明:使用该工艺加工超薄石英晶片可以得到厚度为9.7mm、表面粗糙度为0.002mm的超光滑表面;同时,该研究还发现通过延长抛光时间可以减小石英晶片的表面残余应力,可有效控制石英晶片四角“翘曲”现象,得到更好的平面度和平行度。相关设备:平面研磨机