平面研磨机和平面抛光机有什么区别

平面研磨机和平面抛光机有什么区别：

 

         研磨和抛光是同一种机械运动,原理一样.只是关于外表质量而言,抛光的外表光亮度比研磨要更高一些.其实抛光液能够说是研磨的后道工序,能够在同一台平面抛光机上同时完成研磨和抛光.研磨分为粗磨,精磨,抛光则分为粗抛,精抛.很多时分我们都是三道工序来停止产品外表质量的加工：粗磨,精磨,精抛.有了这三道工序,工件外表的平面度,平行度,粗糙度就相当高了.有些客户精度请求没那么高的,特别是粗糙度请求没有那么高就只采用前两道工序,或者是精磨这一道工序.详细的要看工件外表自身的质量,以及客户请求到达的质量.

 

        研磨和抛光能够在同一台平面抛光机上完成,但是所用的配置却不一样.研磨需求用研磨盘和研磨液,抛光则是用抛光液和抛光盘,抛光垫,抛光布,抛光轮等.所用在一台平面抛光机上完成研磨和抛光时需求研磨后改换盘,液体等配置.