如何解决平面抛光机抛光速率低的问题

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  • 时间:2019-05-10
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摘要:在操作平面抛光机的时候经常出现抛光速率突然降低,对接下来的抛光工艺效率带来很多不便。下面 研磨机 厂家就来为大家解答如何解决平面抛光机速率降低的情况。 首先抛光机的抛光速率低解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。 粗抛目的是去除
      在操作平面抛光机的时候经常出现抛光速率突然降低,对接下来的抛光工艺效率带来很多不便。下面研磨机厂家就来为大家解答如何解决平面抛光机速率降低的情况。
 
    首先抛光机的抛光速率低解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。
 
  粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有最大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。
 
     同时,还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动,以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液,使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用,使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象;湿度太小时,由于摩擦生热会使试样升温,润滑作用减小,磨面失去光泽,甚至出现黑斑,轻合金则会抛伤表面。
 
  当然,我们为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,最好不要超过600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛消除。
 
        以上就是研磨机厂家给大家带来的解决方案,希望通过这篇文章能够帮助大家。