抛光垫对平面研磨工艺有哪些用途

摘要：平面研磨机加工工艺是复杂而又精确的，需要各种研磨耗材的配合。其中抛光垫对平面研磨机的研磨工艺有很大的作用，以下就是抛光垫在研磨机加工工件上的四个作用。 ①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域; ②将抛光后便化学反应充分进行的反应物、碎

平面研磨机加工工艺是复杂而又精确的，需要各种研磨耗材的配合。其中抛光垫对平面研磨机的研磨工艺有很大的作用，以下就是抛光垫在研磨机加工工件上的四个作用。

　　①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;

　　②将抛光后便化学反应充分进行的反应物、碎屑等顺利排出，达到去除效果;

　　③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行;

　　④保持研磨机抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌。